Willkommen auf dem Blog von Marcus K. Reif | Meine Arbeit gibt Ihnen Zeit für Ihre!

Das Potentialpark-Ranking ist bei Personalmarketinglern jedes Jahr aufs Neue ein wichtiger Anlass, um die eigene Arbeit im E-Recruiting zu bewerten. Heute wurde der “Top Employer Web Benchmark”, kurz TEWB, von Potentialpark veröffentlicht. Heute sind die Ergebnisse im Internet zu lesen. Im Oktober 2010 fand übrigens die Befragung der Zielgruppe statt – das sind rund 3.000 Studierende und Absolventen deutscher Hochschulen -, was im Detail ihre Ansprüche an Unternehmenskarriereseiten im Internet sind, was sie dort erwarten und welche Funktionen soe dort voraussetzen. Die Ergebnisse sind wichtig, weil repräsentativ, und relevant, weil die attraktivsten Arbeitgeber Deutschlands dort in eine Rangreihe gebracht werden. Die Vergleichbarkeit ist also gegeben.

Fakt ist, dass 96 Prozent der Studierenden und Absolventen das Internet als erste Quelle für die Suche nach Jobs sehen. Für 89 Prozent dieser Zielgruppe ist die unternehmenseigene Unternehmenskarriereseite ein Anlaufpunkt. Die sozialen Netzwerke werden immer wichtiger, weshalb zum Beispiel bei ThyssenKrupp, die keinen Facebook-Auftritt haben, dies als Malus gewertet wird.

Top 30: Die besten deutschen Karriere-Sites

2011
Unternehmen
Ergebnis
Differenz
1 ThyssenKrupp 1082 2
2 Deutsche Post DHL 1045 3
3 Bertelsmann 1034 -2
4 Bayer 1028 2
5 Fresenius 1019 20
6 Ernst & Young 1005 11
7 RWE 963 -3
8 Eismann 942 72
9 PwC 939 0
10 Postbank 932 12
11 KPMG 913 -4
12 Allianz 907 -4
13 Roland Berger 906 3
14 Otto 906 38
15 Procter & Gamble 872 -5
16 Vodafone 865 -2
17 EnBW 863 -5
18 TÜV SÜD 858 New
19 Haniel 857 34
20 Siemens 851 14
21 McKinsey 841 -6
22 Datev 825 11
23 BASF 818 -4
24 ABB 810 39
25 Audi 806 51
26 Henkel 803 -8
27 Capgemini 796 3
28 Deutsche Bank 792 -5
29 Bosch 788 12
30 Deutsche Telekom 785 -28
Quelle: TEWeB 2011 – Top Employer Web Benchmark “The Career Website Study”
©Potentialpark Communications

Natürlich freue ich mich wahnsinnig, dass mein aktueller Arbeitgeber so weit vorne ist. Eine gute Arbeit des Teams! Gratulation an alle Top-30-bewerteten Unternehmen. Das ist eine schöne Bestätigung der Leistung!

Neu bei der Potentialpark-Studie ist die Untersuchung der Technologie für den Online-Bewerbungsprozess. Hier die Ergebnisse im Rahmen der neuen Apollo-Studie:

Top 30: Die besten Systeme für Online-Bewerbungen in Deutschland

2011
Unternehmen
Provider
Ergebnis
1 Deutsche Post DHL Jobpartners 944
2 ThyssenKrupp Stepstone-iGrasp 936
3 Deutsche Telekom T-Systems 936
4 Bertelsmann Embrace 896
5 RWE SAP 888
6 Audi SAP 888
7 Fresenius Taloom 879
8 Ernst & Young Taleo 878
9 zeb/ persis 852
10 Beiersdorf SAP 851
11 TÜV SÜD SAP 849
12 EnBW Stepstone-iGrasp 846
13 PwC SAP 835
14 HOCHTIEF HR Software 830
15 Volkswagen SAP 827
16 KPMG SAP 823
17 BASF SAP 823
18 Henkel Jobpartners 810
19 ABB SAP 807
20 Datev HiC 805
21 Haniel SAP 802
22 Vodafone SAP 800
23 Siemens SuccessFactors 799
24 Roland Berger Taloom 796
25 Daimler Homegrown 796
26 adidas Group Jobpartners 788
27 McKinsey Homegrown 785
28 Deutsche Lufthansa Milch&Zucker 778
29 Bayer SAP 776
30 Nestlé Taleo-Vurv 775
Quelle: APOLLO 2011 – Applying Online And Loving It “The Online Application Study”
©Potentialpark Communications

Das ist ein Quantensprung in der Studie von Potentialpark. Endlich bekommt man ein gutes Gefühl dafür, welche Technologie welche Akzeptanz hat. Das tut zwar auch Prof. Dr. Jäger mit seiner alle zwei Jahre erscheinenden Studie über die Unternehmenskarrierewebseiten, doch dieser technologische Aspekt der Apollo-Studie ist prima. Auffällig ist, dass die globalen Lösungen, wie z. B. Taleo, singulär betrachtet sicherlich weniger attraktiv sind. hier spielt die Arbeitgeberattraktivität eine große Rolle. Ich möchte nur an die durch milch & zucker optimierte Taleo-Lösung Roche erinnern (Download Casestudy). Das ist in dieser Studie als “best practise” zu wenig gewürdigt.

SAP ist auffallend positiv bewertet. Freut mich ebenfalls.

Details zur Potentialpark-Studie gibt es unter: potentialpark.com 

Beste Grüße

Marcus Reif

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